半导体|俄罗斯称：自主研发了7奈米级光刻机，2028年问世

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俄罗斯一家研究机构宣称正在自行研发一款光刻机，计划在2028年以前问世，将能用于生产7奈米芯片，还称效能有机会比荷兰制造商ASML来得更高。

俄罗斯2月下旬对乌克兰发动战争后，遭到美国、英国和欧盟实施制裁，导致几乎所有拥有先进芯片厂的制造商都中断与俄罗斯的合作。因此俄国推出一项国家计划，誓言在2030年以前发展本国自有的28奈米芯片制造技术，培育科技人才。

俄罗斯目前最先进的芯片技术为65奈米级，若想发展至28奈米就需要更高级的设计与制造设备，不过欧美制造商现因制裁无法提供设备。对此，俄罗斯科学院应用物理研究所就宣布计划开发一款7奈米光刻机，预计在2028年完成全功能光刻设备的交付。
【半导体|俄罗斯称：自主研发了7奈米级光刻机，2028年问世】据了解成立于1984年的荷兰ASML是全球唯一光刻机供应商，花了14年时间才从65奈米技术发展到终于推出7奈米光刻机，而俄罗斯此前并无任何光刻机生产方面的经验，回溯苏联时代，光刻系统也是在白俄罗斯制造的。不过，俄罗斯科学院应用物理研究所宣称只需要6年就能开发出可生产7奈米晶片的光刻机。