光刻胶|打破垄断，国产14nm光刻胶开始投产，南大光电立功了( 二 )

首先国产芯片正在加速前行，需要更多的国产产业链技术设施支持。
国内定下了70%的芯片自给率目标，实现这一目标不仅需要产能支持，而且背后的产业链也需要提供自主化技术，以便在较短的时间内能满足提产的需求。
光刻胶是一大重点，从低端的g线， i线，再到中高端的KrF ， ArF光刻胶，甚至未来的EUV也需要持续攻克。国产芯片正在加速前行，有了国产产业链技术设施的支持，可以建立夯实的供应基础。

其次在供货，定价等方面掌握话语权。
产品掌握在别人的手中，能拿到多少货品，花多少钱采购都由别人说了算。日本光刻胶厂商一度因产能稀缺无法正常供货，且价格持续暴涨。
若打破垄断，有了自己的产品作为替代和候补，那么在供货，定价等方面就能掌握话语权。即便不需要放弃对方的光刻胶产品，也能以国产光刻胶作为退路，增加议价的权利。

国产光刻胶在这几年持续发力，有南大光电，上海新阳以及徐州博康等公司参与其中，相关的技术，产业链设施都在逐步完善。尤其是南大光电的ArF光刻胶，是可应用于55nm ， 28nm ， 14nm等制程的重要材料。
国产芯片正在扩大成熟芯片产能，相信能为国产芯片的发展带来更多的助力。
写在最后
光刻胶是芯片制造过程中不可获取的材料，国产厂商起步时间较晚，所以许多方面还需要攻坚克难。好在国产光刻胶已经开始提速了，积累不少关键技术，期待能取得更大的突破。
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