飞利浦·斯塔克|向中企出货78台光刻机后，ASML再传好消息，外媒：结局清晰了( 二 )

摩尔定律强调，每隔两年集成电路可容纳晶体管的数量会翻倍增长。在过去半个世纪历史中，摩尔定律一直是生效的，因为晶体管的数量的确在持续增长。

每一代工艺制程以10% ， 15%左右的幅度提高性能。但晶体管数量增长是有条件的，要么是采用更先进的制程工艺，要么通过外部的半导体设备进行辅助。
当工艺制程达到临界点后，就需要半导体设备的干预了。所以面向未来如何延续摩尔定律， NA High EUV光刻机是至关重要的。
有了NA High EUV光刻机之后，台积电，三星能够顺利量产出2nm芯片，并有可能在2nm之下继续前行。到时候全球半导体行业或将迎来洗牌，实现脱胎换骨的蜕变，各大厂商为了跟进发展，一定会开发出更先进的工艺，创造科技辉煌。

写在最后ASML发展势头非常迅猛，订单络绎不绝，供不应求，不仅向大陆出货出货了78台光刻机，还拿到了英特尔、台积电、三星的预付订单。
只要ASML顺利量产NA High EUV光刻机，就不愁销量。这台新一代EUV光刻机能带领人类科技走向何方，令人期待。
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