光刻机|俄罗斯传出新消息，光刻机巨头ASML，再见了？( 二 )

如果单从波长来看，确实是能比肩EUV光刻机。而且采用X射线技术无需光掩模版就能直接刻写，这能省下不少成本。
俄地区真能制造出X射线光刻机吗在俄地区传出要自研光刻机的时候，很多人都表示不可置信，还嘲讽俄地区造不出芯片。
半导体领域不发达不代表人家科技技术差。事实上俄地区在X射线和等离子这方面的技术上本就有着深厚的基础。早在2010年俄地区的无掩膜光刻技术甚至一度与ASML齐平。
在ASML第一台预生产的 EUV 光刻机推出时，俄地区的物理研究所 IPM（RAS）就已经在开发 EUV光刻设备的系统及元件，并搭建出了装置原型。开发人员提出的辐射源原始解决方案其中有一部分还应用到了 ASML 的光刻机上。

MIET 主要从事纳米电子器件研究，覆盖微机电系统、纳机电系统以及 X 射线器件等领域研究。这些都与光刻机的制造技术密切相关，这也是为什么 MIET 能承接这个项目的原因。
而且X射线光刻技术并不是现在才有的，欧美地区和我们国内科研机构在之前都做过相关的研究，但制作出来的X射线光刻设备只能用在特定场景，无法实现量产。
由于X射线的穿透性太强，无法实现投影光刻。现阶段它只能用于直写光刻，直写光刻就是直接使用强激光束将电路一点点进行刻画，但要想刻写出纳米级集成电路用这个方式效率实在太低。
所以这个技术在之前并没有被大力发展。这样看来俄地区现在发展这个技术主要的难题还是在于 X 射线工艺以及效率的提升上。

按照计划，今年11月MIET将完成动态掩膜的技术和模型的开发，要求工艺将达到 28nm制程以上。
结论综上所述，俄罗斯要造出X射线光刻机是有可能的。如果他们真的造出了可以量产的高制程光刻设备，那么就意味着ASML的光刻设备垄断地位将被打破。
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