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8月15日开始 , 美国商务部工业安全局BIS最新禁令生效 , 正式对中国EDA软件断供!
与此同时提到的技术有两种超宽禁带半导体材料——金刚石和氧化镓 , 还有一种燃气轮机的压力增强燃烧技术——压力增益燃烧(PGC)技术 。
半导体和发动机 , 是美国看守最严的两项技术!受此禁令影响 , 80%以上国产企业使用的MEMS EDA软件的母公司已向中国禁售半导体制造设备!
我国芯片、传感器等半导体产业长期以来极度依赖美国企业的EDA设计软件 , 传感器EDA设计软件市场几乎100%无国产!一旦禁用 , 中国传感器企业还能设计出传感器吗?我们有替代的国产MEMS CAD软件吗?
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已经生效!禁用这个EDA软件模块!美国誓要斩断中国先进芯片之路!
美国的EDA电子设计自动化软件对中国企业的断供 , 已经是第三次了 。
第一次是2018年对付中兴;第二次是2019年断供华为;而这一次 , 干脆是对中国整个芯片企业 。
而这次断供的 , 并不是全部EDA软件 , 而是一个EDA软件模块——该模块用于设计GaaFET结构芯片所必需 。
这就像“打蛇打七寸”般致命的中国半导体产业的关键点 , 将影响半导体未来10年的格局 , 甚至可能斩断中国先进芯片制造升级之路!
▲先进芯片制造工艺发展历程:PlanarFET、FinFET、GAAFET
为什么美国一定要禁用GAAFET结构芯片所必须的EDA软件模块?
因为半导体制程已经进入3纳米后工艺 , 摩尔定律面临着失效的局面 , 而半导体界正在采用一种全新的全栅式场效应晶体管GaaFET来应对更先进的制程 , 以替代之前一直使用的鳍式场效应晶体管FinFET 。
目前 , 全球3大主流先进芯片制造商 , 三星已经在其3nm工艺里使用GAA晶体管 , 而台积电和英特尔则计划在2024年将GAA技术用于其2nm工艺 。
因此 , GAAFET工艺是进入2纳米制程之后的主流工艺架构 。 在摩尔定律下 , 集成电路上可容纳的晶体管数量大约每18个月就会增加一倍 , 针对不同制程阶段 , 有不同的主流工艺架构 , 也就有不同的EDA工具 。
在此之前 , 主流的工艺架构一直是FinFET , 即鳍式场效应晶体管 , FinFET工艺在22纳米制程之后成为半导体的主流工艺架构 , 一直延续到5纳米制程 。 包括中芯国际目前14nm晶圆使用的 , 也都是FinFET工艺 。
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