光刻机|国产光刻机迈出重要一步

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【光刻机|国产光刻机迈出重要一步】

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光刻机制造巨头ASML说过：“中国不太可能独立造出顶级光刻机，但永远别说永远。 ” ASML给自己留了一个话口，没有说一定或者绝对，而是以“别说永远”的口吻去对未来的可能性做出评判。

可见ASML也不确信中国能不能独立造出顶级光刻机。以后的事情我们不知道，但可以确定的是，只要不断取得进步，就一定能离目标更近一些。
而国产光刻机传来好消息，迈出了重要一步，这次国产光刻机取得了怎样的进步呢？迈出这一步有何意义？

国产光刻机传来好消息，迈出重要一步得益于芯片制造产业的快速发展，光刻机成为了许多芯片制造商们争抢的半导体设备。作为造芯片必不可少的设备工具，越顶级的光刻机能够曝光更多的晶圆，并且在极致光源波长的作用下，光刻出数量越多的晶体管。
目前全球最顶级的光刻机是EUV极紫外光源，它的生产制造能力掌握在荷兰ASML公司手中。短时间内国产光刻机还达不到这样的成就，可是也不需要气馁，因为国产光刻机也在不断传来好消息，说明并未停止脚步。

只要不断前进，就能迎来破局的曙光。这一次国产光刻机在曝光光学系统上传来好消息，迈出重要一步。
消息事件的主角是北京国望光学科技有限公司，根据该公司公布的公告显示，投影光刻机曝光光学系统研发及批量生产基地项目有三家候选人中标，这三家候选人主要负责曝光光学系统该项目的生产厂商洁净工程。

国望光学在光刻机产业链的定位是物镜系统供应商，这次展开的曝光光学系统研发及生产建设项目，可以说是让国产光刻机迈出了重要一步。
因为国望光学这一生产建设项目的布局规划几乎涉及到从成熟工艺到先进工艺的覆盖，满足350/280nm 节点到28nm工艺节点及以下的光刻机曝光光学系统产品IDM模式能力，实现集设计研发，生产制造和供货交付的能力。

不出意外，国望光学这次是实现了光刻机四大件之一的物镜系统进步了。顶级光刻机有10万个零部件，这点相信大家都清楚。但光刻机最主要的四大件才是重中之重的关键，包括双工件台、光学系统、控制软件、物镜系统。
这四大件当中国内都有各自的供应商巨头传来好消息，双工件台可以由华卓精科负责，科益虹源负责光源系统，国望光学参与物镜系统的打造，至于控制软件还有待完善产业链。

虽然距离国外EUV光刻机的水准还有路要走，可经过日积月累的进步后，一定能迎来转机。
北京国望光学正在开展的曝光光学系统研发生产建设项目已经进入到关键阶段，从公布厂房洁净工程候选人时就知道，国产光刻机已经迈出了重要一步。
一旦生产基地如期在2023年投入使用，势必实现国产光刻机产业链的核心项目突破。作为光刻机的四大件之一，解决了一个再去解决第二个难题，一步步向前，直至目标。
迈出这一步有何意义？国内并非没有自己的光刻机产业链，大家只看到了ASML有何种光刻机制造实力，其实只要有去了解国产光刻机的产业链结构，会发现很多关键的零部件生产商都是有的。