三星|5nm假冒4nm？三星、台积电撒了弥天大谎？( 三 )

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Intel的10nm制程工艺虽然比三星、台积电的10nm工艺推出时间略晚，但是它的晶体管密度却达到了后者的两倍。

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此外，Intel 10nm的鳍片间距、栅极间距、最小金属间距、逻辑单元高度等指标均领先于台积电和三星的10nm 。

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但是，对于大多数商用客户及消费者来说，并不会去深究各家制程工艺的实质差别，通常都会认为制程工艺节点的数字越小，就代表着越先进。这也使得三星、台积电在“制程节点命名的游戏”上越玩越嗨，并且凭此也赢得了市场的领先！
相比之下，“守旧”的Intel却像个“祥林嫂”，一直在那说“我的是10nm相当于竞品的7nm”，“我的晶体管密度更高”，“竞品在工艺节点数字上的领先，并不是真正的领先”！但是，在消费者看来，Intel在工艺节点数字上的落后是“真的落后了” 。
为了彻底扭转这一局面，在Intel新CEO基辛格加入之后，很快就选择了“打不过就加入”的策略，也开始玩起了“制程节点命名的游戏”，彻底打破了坚守了数十年的命名规则，直接采用“Intel X”的命名方式，来与台积电的制程工艺节点一一对应。比如原本的Intel10nm工艺被重新命名为了Intel 7，对应台积电的7nm工艺。
虽然现在大家都在玩“制程节点命名的游戏”，但是基本上都是针对竞争对手，对于自家的产品，仍一直都是遵循制程工艺节点数字越小，越先进的命名规则。
如果TechInsights的分析无误的话，那么三星、台积电跟客户一起“编造制造工艺的谎言”，拿“5nm”来冒充“4nm”无疑是太过分了。这也将使得制程工艺节点的命名，完全失去了应有的意义。

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