AMD|事关EUV光刻机，ASML最终还是官宣了

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光刻机制造技术最先进的厂商是ASML ，其研发制造的DUV光刻机和EUV光刻机几乎占领了中高端市场。
尤其是EUV光刻机，其是生产制造7nm以下芯片的最优解，各大芯片厂商都争相购买，但EUV光刻机的产能却不足，关键是其也不能自由出货。
据悉， EUV光刻机被生产制造出来后，在没有许可的情况下，就不能自由出货，由于芯片等规则被修改， EUV光刻机也不能出货到外企中国分厂。

面对这样的情况， ASML一直都在争取EUV光刻机自由出货，其已经多次明确做出表态。
例如， ASML表示其对全球厂商一视同仁，向国内厂商提供其能够提供的一切技术。同时， ASML还加速在国内市场布局，并扩大研发中心的规模，建设维修中心等。
为了尽快实现EUV光刻机， ASML还明确表示，限制ASML等自由出货，只会加速其它厂商加速突破， 10年之后，或许ASML就全面退出国内市场了。
【AMD|事关EUV光刻机，ASML最终还是官宣了】
事关EUV光刻机， ASML最终还是官宣了
目前而言， ASML的DUV光刻机基本上可以自由出货，原因是其并非最先进的技术，而EUV光刻机是最先进的技术。
于是， ASML一直都在做两件事情，一件是提升EUV光刻机的产能，将EUV光刻机变成普及度很高的设备。
于是，其计划今明两年量产115台EUV光刻机，并扩大了位于新加坡的光刻机生产线，并计划到2025年将EUV光刻机在全球的安装使用率提升到60% 。

另一件是加速研发推进更先进的EUV光刻机设备，据悉，其已经正式交付了首台NA值为0.55 的EUV光刻机，其可以更好地用于生产制造3nm、2nm等芯片。
可以说， ASML提升EUV光刻机产能，并加速推出NA值0.55的EUV光刻机，目的就是让EUV光刻机不再是最先进的技术，这样就能够实现自由出货。
如今，事关EUV光刻机， ASML还是官宣了，目的就是想加速EUV光刻机自由出货。
ASML已经正式对外表示，现有技术能实现 1nm 工艺，摩尔定律可继续生效十年甚至更长时间。
这意味着ASML正在研发制造比NA值为0.55的EUV光刻机更先进的设备。

也就是说， EUV光刻机可以将芯片制程推进到3nm ，而NA值0.55的EUV光刻机可以将芯片制程缩小至2nm等，而正在研发的更先进的EUV光刻机可以将制程缩小至1nm 。
在这样的情况下，现有NA 0.33的EUV光刻机就不再是最先进的设备，其情况就如同了DUV光刻机一样，自然也就能够自由出货。
所以才说事关EUV光刻机， ASML最终还是官宣了。毕竟， ASML不能自由出货，也面临巨大的压力。
其中，佳能、铠侠等厂商已经推出了NIL工艺， 2025年就能够生产制造5nm芯片，并计划在全球范围内推广该技术，该技术基本上可以替代EUV光刻机了。

另外，华为等厂商都在研发推进光电芯片，该技术可完全绕开美技术，如果ASML的EUV光刻机迟迟不能自由出货，必然会加速光电芯片的到来。
而且，荷兰已经投资11亿欧元用于研发光电芯片等技术，德国方面也已经开始展开相关光电芯片的课题研究，可以说，光电芯片的大幕已经全面拉开了。
在这样的情况下， ASML必然会想办法尽快实现EUV光刻机自由出货，一方面是为了防止EUV工艺被NIL工艺；