好在我国在成熟工艺方面已经实现了自主可控 ， 并且高能同步辐射光源设备、直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置已经成功研发并投入使用 ， 这为我国EUV光刻机的制造夯实了基础 。 通讯、全球定位、空间站我国能打破西方封锁 ， 相信用不了多久 ， 我国必然能解决EUV光刻机的制造难题！

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