芯片|EUV光刻机事件重演，这次是14nm芯片设备( 二 )

不过世事无绝对，凡事都有例外。美国可以通过技术影响ASML出货EUV光刻机，但是中企在刻蚀机方面同样有深度的技术积累。刻蚀机和光刻机一样重要，且刻蚀机可用于5nm芯片生产线。
这家中企就是中微半导体，该公司的刻蚀机位列全球一线水准，台积电也需要向中微半导体采购刻蚀机。

据悉，台积电位于美国的工厂将在下半年引进中微5nm刻蚀机，由此可见，美国在发展5nm芯片制造业方面，也需要中企的支持。既然美国随意影响供应商出货，那么能效仿对方的做法吗？
只能说一切以推动市场自由贸易为主，如果也效仿了对方把持产品不出货，那样和对方有什么区别。
他们能不顾企业的营收利益，阻碍产品出口，我们没有必要去效仿。而且我们推动自由贸易合作，不仅对产业发展有利，也能为企业赚取更多的营收，有了营收便有了投入科研项目的经费。美国的做法本身就是就是错误的，又何必重蹈覆辙。

可是美国一而再，再而三，先是EUV光刻机，然后是14nm芯片制造设备，在自主芯片发展的道路上，如何解决这些设备需求问题呢？
或许只能靠自主研发，别人不出货设备，就自己研发。等待对方放货的可能性并不大，就算一时间能够出货，难保在未来的某个时刻故技重施，只有自己掌握了相应的技术，当对方想要上演同样戏码的时候，便能灵活应对。

总结美国把持半导体设备不出口，影响的只会是美企的利益。美国想要通过这种方式减缓竞争对手的发展速度，只会促使对手用更快的速度破局。等实现突破时，美国再想回过头来出货设备，选择权就不在美国手中了。
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