摩托罗拉|在40年前，我们与光刻机失之交臂

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如今我们芯片被“卡脖子” ，差就差在了光刻机上。有人说给我们图纸，我们也造不出高端光刻机，其实早在40年前，我们就有了光刻机技术。

【摩托罗拉|在40年前，我们与光刻机失之交臂】

那是在上世纪70年代，武汉无线电元件三厂编写出一本《光刻掩模板的制造》，这就是光刻工艺icon用于生产的雏形。在当时，除了美国和日本外，韩国和中国台湾根本就不知道什么是光刻技术。

其实我国在光刻机上的布局是从上世纪60年代就开始的。当时中国科学院研发出了65型接触式光刻机， 1970年中科院又开始研发计算机辅助光刻掩模工艺， 1980年清华大学更是研发出精度达到了3微米的先进光刻技术……

只可惜到了80年代，直8、运10、远程轰炸机、大型导弹驱逐舰等一大批项目落马了，其中也包括了光刻机。从此后我国光刻机技术停滞不前，直到渐渐的被落在了后面。

想起这段往事，难免让人心痛。如果当时我们没有放弃研发光刻机的话，那么现在的国际半导体领域将是另一番格局。这件事情也告诉我们，除了自己，谁也靠不住。只有坚持自主研发，不断前进，才能早日赶上去，夺回半导体领域本该属于我们的一切。