联想|国产光刻机精度虽然低，把CPU尺寸做大些获得同样性能可行吗？

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国产古光刻机精度虽然低，把CPU尺寸做大些获得同样的性能可行吗？答案是不可行，要说起来国产自研发处理器的厂商确实不多，目前我们可能知道最多的就是华为和龙芯，确实我们在军用方面现在很多用的是65nm公司的技术，这也是目前国内光刻机上海微电子目前最成熟的工艺，不过军用方面确实没有问题，在国外也会发现军用方面CPU工艺制程也不高，原因就在于说本身军用处理器对于性能的要求不高，所以不需要说像现在商用的CPU一样需要考虑到晶体管的数量，再者就是要求稳定，工艺虽然看着很差，但是经过测试发现工艺越高，抗干扰的能力就越低，所以现在军用的确实工艺都不高，

但是我们还要考虑到一个问题，那就是商用和军用的不同，比如就拿华为来说，如果把尺寸做大，也就意味着手机尺寸要增加，而且你要考虑到功耗和发热，电脑确实现在比如intel大多数还是集中在14nm ，这是因为电脑主机尺寸大，所以散热做的更好，但是手机确实不可以，而且现在你看看大多数都是集中在7nm手机现在的处理器，功耗和发热一样会很大，你如果采用之前的工艺那功耗和发热会怎样，确实不敢想象。

实际不管是电脑还是手机处理器这种方式都不可行，工艺越高晶体管数量越多，实际就是为了保证性能和功耗的均衡，但是你只顾增加尺寸，对于工艺不做要求，那么散热就要做的很好，但是我们看到的情况，现在intel的14nm处理器，我们发现即便是有散热的情况下，电脑还是会发热，这么大的主机体积和散热都压制不住，手机怎么压制。而且现在光刻机国内完全自主研发的就是上海微电子，现在还是保持在65nm ，至于说的28nm目前听说是将要在年底才会上线，所以还是不确定的状态。

【联想|国产光刻机精度虽然低，把CPU尺寸做大些获得同样性能可行吗？】
现在军用CPU就是如此，因为散热做的更好再加上要求不高，但是商用的电脑处理器手机处理器这种方式是不可行的，工艺差，你通过提升面积来增加性能，功耗和发热需要考虑到，而且国内最高65nm ，这个发热量确实有点大了。