光刻机|另辟蹊径，国产冰刻机取得新进展，未来或取代光刻机。

另辟蹊径，国产冰刻机取得新进展，未来或取代光刻机。

现在我们的芯片被“卡脖子” ，关键就在于光刻机。光刻机问题如果能够解决，我们的芯片产业势必一飞冲天。当然，一台先进的EUV光刻机，里面的零部件多达10万个，其中很大一部分都是多国尖端科技的结晶。要想把这10万个零件凑齐，没那么容易。

所以我国很多科研机构也在寻求其他的解决之道。就像是杭州的西湖大学中，就有一支专门研究冰刻机技术的团队。冰刻机和光刻机的不同就是冰刻机用冰替代了光刻胶，用电子束替代了光源，能够帮助我们绕过很多技术难点，生产出高制程的芯片来。

经过近10年的研发，冰刻机技术已经初现雏形，下一步就是批量实验，然后推向市场。当然，冰刻机和光刻机还是有一定的差距，如今光刻机已经开始向2nm芯片冲刺，而冰刻机生产出来的芯片很可能只有10nm 。

虽然如此，但我们仍然要不断的尝试。这样才能总结出可行性经验，让差距逐渐减小，最终实现超越。不知大家怎么看？
【光刻机|另辟蹊径，国产冰刻机取得新进展，未来或取代光刻机。】