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同时三星也表示 , 3nm芯片相比于自己的5nm芯片 , 性能提升了23% , 功耗降低了45% , 芯片面积缩小了16% 。
不得不说 , 这些数值也表现非常棒 , 特别是功耗降低45% , 让下游的客户心动不已 。 毕竟当芯片进入到5nm之后 , 功耗大增 , 已经让厂商们头痛不已了 。
特别是高通 , 自从芯片进入5nm之后 , 由于功耗太大 , 发热量也上升 , 于是骁龙888、骁龙8Gen1都获得了“火龙称号” 。
如果3nm能够降低45%功耗 , 想必高通是最兴奋的厂商之一 , 因为“驯龙”有戏 , “火龙”有救了啊 。
那么问题来了 , 为何三星的3nm工艺 , 能降低45%的功耗?原因在于三星采用了GAAFET晶体管技术 , 而之前从14-4nm , 采用的是FinFET晶体管技术 。
对于一颗芯片而言 , 功耗分为两个部分 , 一个部分是动态功耗 , 一部分是静态功耗(又称漏电功耗) 。
动态功耗是指芯片进行计算时 , 本身的功耗 。 而静态功耗 , 则是芯片加上电之后 , 电流通过晶体管时 , 泄露的功耗 。
别小看静态功耗 , 静态功耗才是大头 , 占一颗芯片总功耗的60%以上 , 晶圆厂一直就在与静态功耗(漏电功耗)对作 , 比如英特尔 , 一直就在讲自己的漏电功功降低了 。 台积电之前有个“台漏电”的称号 , 也是讲这一块控制得不佳 。
而使用GAAFET晶体管技术时 , 由于技术更先进 , 相比于FinFET技术 , 加到晶体管上的电压(阈值电压)变小了 。 大家回忆下初中物理知识 , 功率=电流X电压 。
当电压变小时 , 是不是功耗就变小了?由于GAAFET相比FinFET的阈值电压要低30-50% , 所以静态功耗理论上也就变小30-50% 。
【三星|拥抱中国厂商,三星量产3nm芯片,功耗降低45%,台积电压力大】
再加上3nm工艺更精细 , 在动态功耗上也会有降低 , 以及GAAFET晶体管技术 , 本身漏电情况也会稍好一点 , 所以最终实现了45%的功耗降低 。
而三星还表示第二代 3 纳米 GAA 制造工艺也正在研发中第二代工艺将使芯片功耗降低达 50% , 性能提高 30% , 面积减少 35% 。
可以说 , 三星的3nm工艺 , 比依然采用FinFET工艺的台积电3nm , 真的是更有优势的 。
考虑到当前台积电已经绑定了苹果、AMD等厂商 , 三星为了抢台积电的市场 , 这次是拥抱中国厂商了 , 据媒体报道称 , 上海磐矽半导体将成为最初的客户之一 , 另外还有更多的中国企业 , 可能会率先与三星合作3nm 。
不知道接下来台积电如何应对 , 基于FinFET技术 , 本来就落后一些 , 现在时间又落后一些 , 台积电已经处于劣势了 。
就看三星3nm的率良高不高了 , 如果良率高 , 表现好 , 这一把说不定真有翻身机会 , 就像当年三星在FinFET技术上 , 率先实现14nm一样 。
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