芯片的发展史和具体用途以及结构是什么样的

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这是近50年来芯片制成的发展曲线，其中第一个采用1万纳米的CPU是英特尔的4004 ，第一个采用5纳米制成的是水果公司的A14 ，下面说一下芯片之城到底是什么鬼东西，也就是我们所说的七纳米、十纳米，这些到底指的是什么？还有它们都采用了什么工艺？
这些工艺大致可分为两类，在22纳米之前，采用的是平面晶体管工艺，而22纳米到现在的5纳米，采用的是3D晶体管工艺。

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你看，这是一个平面晶体管，这是他的源极，这是漏极，这是它的通电沟道，这是绝缘层，这是栅极，当我们给栅极施加电压时， MOS管导通，电子从源极流向漏，即我们所说的制程工艺就是这个沟道的长度。
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比如这个沟道是90纳米的，我们就说这个芯片采用的是90纳米的制程，虽然说这是平面晶体管，但是它的结构也是立体的，之所以说它是平面晶体管，是因为它采用了平面工艺，所制作出来的芯片表面看起来是平坦的，所以说这是平面晶体管。

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后来之所以又有了3D晶体管，是因为平面晶体管已经满足不了晶体管制成的缩短，当芯片制程缩小到22纳米时，由于沟道太短，栅极很难完全关断，因为沟道越短，栅极控制沟道的能力越差，这时候即使把栅极电压去掉之后，他依然有很大的漏电流。
为了能关断短沟道晶体管，台湾的胡正明教授发明了鳍式场效应晶体管，又称Finfat ，这是一种3D晶体管， Finfat的原理是让这些半导体变薄，然后向上凸起，然后再让栅极环绕导电沟道，这样接触的表面积更大一些，做薄之后可以提高晶体管的开关速度，并减少漏电流，同时还可以缩短栅极长度。
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为了进一步提升开关速度并改善漏电流，还可以把它的导电沟道这些分成三小份，这样更容易关断，这就是胡正明教授伟大的发明鳍式晶体管，之所以说鳍式晶体管，是因为它背面的凸起很像鱼鳍。
当制成小于22纳米时，在半导体工艺命名上出现了混乱状态，各个半导体厂商强调的制成没有一个标准，此时尽纳米制成仅仅是一个商业名称罢了，已经不代表晶体管的物理尺寸。
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